場發射電子源是場發射電鏡的核心部件，它利用電場作用使電子從鎢或其他高電子親和力材料中釋放出來。場發射電子源具有較小的尺寸、高亮度和長壽命，能夠提供高束流密度的電子束。電子光學系統包括準直透鏡、電子源支架、電子束磁透鏡和檢測器等組成。通過精確控制透鏡的磁場分布，可以將電子束聚焦到納米尺度下，實現高分辨率成像。樣品臺是電鏡中支持和移動樣品的平臺。樣品臺通常具有高精度的運動系統，可以使樣品在多個軸向上進行精確的定位和旋轉，以獲得多角度、高分辨率的成像。

  

　　場發射電鏡的應用：
 

　　1.納米材料表征：能夠提供亞納米級或更高分辨率的成像能力，對納米材料的形貌、晶體結構和界面性質等進行表征，為納米材料的研究和應用提供重要的支持。
 

　　2.生物學研究：在生物學研究中有著廣泛的應用。它可以通過對生物樣品的高分辨率成像，觀察細胞內部的亞細胞結構、分子組織以及生物反應的動態過程，為生物學研究提供重要的視覺信息。
 

　　3.材料科學和工程：在材料科學和工程中的應用也十分廣泛。它可以用于觀察材料的形貌、晶體結構、缺陷和界面等微觀結構，幫助科學家深入了解材料的性質和性能，從而指導材料設計和工程應用。
 

　　4.硬盤存儲技術：在硬盤存儲技術中也發揮著重要作用。它可以通過對硬盤磁頭的形貌和結構的觀察，提供關于讀寫性能和穩定性的數據，為硬盤存儲技術的制造和改進提供有力支持。
 

　　近年來，場發射電鏡的市場需求持續增長，主要因素包括新興材料研究、納米技術的發展、生命科學領域的研究進展等。此外，對更高分辨率、更高性能和更多功能的需求也推動了市場的發展。例如，新一代的通常具有更高的分辨率、更大的樣品裝載能力、更高的穩定性和更多的顯微成像模式。