一般情況下,使用低加速電壓,能夠更好地觀察表面的微細結構。使用高加速電壓,電子束在樣品中的擴散區域增大,從樣品內部產生的不必要的信號(如背散射電子)會掩蓋樣品表面的微結構。特別是在觀察密度低的物質時,以低加速電壓為好。
圖1 入射電子的擴展(根據Duncumb和Shields的理論) 圖2 加速電壓的效果
圖3 樣品:百合花花粉,放大倍數:×900,(a)如圖所示,使用30kV的高加速電壓,就難以獲得表面結構的襯度;(b) 如圖所示,使用5kV的高加速電壓,清楚的顯示了表面的微細結構。
(a)30kV (b)5kV
圖4 樣品:噴金粒子,放大倍數:×50,000,如圖所示使用30kV的電壓,圖像的清晰度和分辨率高。
(a)30kV (b)5kV
圖5 樣品:濾紙,放大倍數:×900,如圖所示使用5kV的電壓,入射電子的擴散區域較淺、樣品表面的結構顯露得清楚。
(a)30kV (b)8kV
圖6 樣品:鋁合金,放大倍數:×1500,如圖所示使用高加速電壓時,樣品內部的結構物質產生的散射電子增多,表面的微細結構襯度欠缺。另外,樣品內部物質的不同襯度也顯露出來。
(a)30kV (b)8kV
圖7 樣品:鋁合金(Zn MAP圖像),放大倍數:×1500,如圖所示使用高加速電壓時由于入射電子的擴散區域增深,導致元素分布不清楚。
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